新毅东取得具有掩模版清理功能的光刻机专利, 能够有效提高清洁精准度
发布日期：2026-04-28 11:10 点击次数：119
国家知识产权局信息显示，新毅东（北京）科技有限公司取得一项名为“具有掩模版清理功能的光刻机”的专利，授权公告号CN224109774U，申请日期为2025年6月。
专利摘要显示，本实用新型属于半导体制造技术领域，公开了一种具有掩模版清理功能的光刻机。该具有掩模版清理功能的光刻机包括通讯连接的在线检测系统和清理系统。清理系统安装于在线检测系统的一侧或安装于在线检测系统内部，在线检测系统用于检测掩模版的表面是否存在异物颗粒，清理系统用于对掩模版的表面进行吹淋清洁处理，清理系统包括风淋件和抽气件，风淋件和抽气件均安装于在线检测系统的掩模版入口处，风淋件的风淋口位于掩模版的上方且与掩模版的表面相对设置，抽气件的吸取口位于掩模版的下方且与风淋口相对设置，抽气件用于收集风淋口吹扫的异物颗粒。具有掩模版清理功能的光刻机能够有效提高清洁精准度，优化异物颗粒的清洁效果。
天眼查资料显示，新毅东（北京）科技有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析，新毅东（北京）科技有限公司共对外投资了13家企业，参与招投标项目88次，财产线索方面有商标信息31条，专利信息150条，此外企业还拥有行政许可7个。
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